첨단 반도체 장비(EUV) 도입 규제 등 11건 규제 혁신

- 반도체 초강대국 달성을 촉진하고 지원하는 기폭제 기대

산업통상자원부(장관 이창양, 이하 산업부)는 반도체 초강대국 달성을 위해 반도체산업에 사용되는 고압가스에 대한 안전혁신과제(11건)를 선정하고 전문가 검토 등을 거쳐 합리적으로 개선하여 기업부담을 완화할 계획이라고 지난달 12일 밝혔다.
  산업부는 그동안 반도체 산업을 지원하고, 반도체 제조 용도의 디플루오로메탄(CH2F2, 반도체 식각용), 삼불화붕소(BF3, 반도체 도핑용) 가스 등 수입 산업가스 수급안정을 위하여 ‘검사생략 고압용기의 해외 반송기한’을 6개월에서 최대 2년으로 연장하는 등 지속적으로 규제를 발굴 개선해 왔다. 특히, 이번에 선정된 11개 규제는 규제 개선시 국내 반도체산업의 글로벌 경쟁력을 한층 더 높일 수 있는 과제로, 반도체관련 단체 및 기업과의 간담회 현장방문 등을 통하여 도출하였다.
  산업부는 올해 6월부터 반도체기업 및 유관협회에 대한 의견수렴과 간담회 등을 통해 반도체 제조공정에 쓰이는 수소를 포함한 고압가스의 안전규제에 대하여 다양한 개선과제를 발굴하였으며, 이 중, 안전성이 확보되면서도 기업 활동을 촉진할 수 있는 고압가스 관련 반도체 생산장비 및 저장설비 등에 대한 7개 과제를 전문가 검토 등을 거쳐 신속히 개선해 나갈 계획이다. 아울러, 나머지 4개 과제에 대해서도 관련 단체 업계와 간담회, 현장방문 및 전문가 검토 등을 통하여 안전성을 확인하고 타 법령과의 연계 가능성 등을 고려하여 개선방안을 모색할 예정이다.
  주요 규제 및 개선 기대효과는 ①차세대 EUV장비1)1) (EUV장비, Extreme Ultra Violet : 극자외선 파장) 네덜란드 ASML社가 생산하는 장비로 극자외선을 이용하여 반도체 회로를 그려주는 노광장비로, 차세대 EUV장비는 고압가스배관 재질을 슈퍼듀플렉스 소재를 사용하여 장비 효율을 높임
의 국내 도입 시 걸림돌을 제거하여 첨단제조설비를 선점함으로써 글로벌 경쟁력을 확보하고, ②방호벽 설치기준 등을 완화하는 등 반도체공장의 증설을 용이하도록 함으로써 반도체공장 內 부지의 활용도를 높이도록 하는 것이다.
  이번에 신속하게 개선할 예정인 고압가스안전 분야의 주요 규제혁신과제 내용은 다음과 같다.

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