반도체 벤처인 츠쿠바세미테크놀로지(츠쿠바시)는 고농도 오존수를 사용한 반도체 세정장치를 개발하였다. 화학약품을 거의 쓰지 않고 마무리하여 하수처리 등의 운전원가를 반감시킨다. 반도체 세정장치전문인 SES와 제조판매에서 협력하여 근간 판매를 시작한다. 80ppm으로 과거의 몇 배 고농도인 오존수를 사용한다. 반도체 웨이퍼를 오존수에 담가, 엑시머광선이라는 특수한 빛을 쪼여 제조공정에서 사용하는 감광제 등을 웨이퍼로부터 제거한다. 1매씩 반도체웨이퍼를 씻는 매엽식枚葉式을 채택. 50~100매를 한번에 씻어왔던 기존제품에 비하여 깨끗하게 세정할 수 있다. 하수의 오염이 줄어 환경부하를 억제하는 외에 회수율도 높아진다. 가격은 1억5천만~2억엔 정도로 기존제품과 동등. 일본이나 미국, 한국, 대만 등의 반도체 대기업체에 판매한다. 연 100대의 판매를 목표한다. (일경산업)