주성엔지니어링은 ICP 에쳐용 가스 확산판에 관한 특허를 취득했다고 공시했다. 이번에 특허를 받은 ICP 에쳐용 가스 확산판은 소정 직경의 세라믹 볼들 또는 베스펠(vespel) 볼들이 포함된 다공질 판체와 상기 판체의 일면에 형성된 가스 유로용 그루브(groove)와 상기 판체의 타면을 덮는 동시에 균일 밀도로 분포된 복수의 관통공을 가진 가스 분배판을 구비하는 것이 특징이다. 이번 발명으로 에칭공정의 균일도가 향상되므로 우수한 품질의 반도체 소자를 제조할 수 있다고 회사측은 설명했다.