미국 메사추세츠 주의 난테로 사(Nantero Inc.)는 LSI 로직 사와 합력하여 효율적으로 탄소나노튜브를 사용하여 첨단 CMOS 제작이 가능한 새로운 공정을 개발하였다. 탄소나노튜브가 가진 높은 전기 전도도, 열전도도 그리고 인장강도의 특성으로 탄소나노튜브는 차세대 전자 장치 제품에 매우 매력적인 소재로 인식되어 왔다. 이러한 특성들은 기존 반도체 제품에 결합하여 사용되거나 차세대 제품을 개발하여 사용할 수도 있다. 협동 개발 프로젝트는 65nm R&D 공정이 가능한 LSI 로직의 Gresham에서 이뤄지고 있다. (ACB)