표준연 정광화 박사팀, 나노미터 오염입자 크기 측정 기술 개발 한국표준과학연구원의 정광화 박사팀은 반도체 제조과정인 플라즈마 화학증착이나 식각공정에서 발생하는 나노미터 수준의 오염입자의 크기를 측정할 수 있는 새로운 기술을 개발했다. 정 박사는 레이저로 오염입자에 쪼였을 때 입자가 가열되면서 나오는 복사선의 세기로 오염입자의 농도를, 상승과 소멸시간으로부터 입자의 크기를 측정하는 ‘레이저 백열법’을 이용했다. 이 측정기술을 사용하면 플라즈마 화학증착이나 식각 등 현재의 반도체 제조공정을 개선할 뿐 아니라 차세대 반도체 공정 및 나노소자 제작 공정에 이용할 수 있다.