반도체 실리콘웨이퍼 한번에 금속 오염 제거하는 새 기능수 제조장치 개발 三井물산의 전액출자 자회사인 퓨어트론(東京都 港區, 사장 安西淸一)은 반도체 실리콘웨이퍼를 세정하는 현재의 ‘RCA방식’으로는 세정하기 어려운, 구리 등의 금속오염을 제거하는 새로운 기능수 제조장치를 개발했다. RCA세정이 몇 번의 작업이 필요한데 비해 새 장치는 한 번에 오염을 제거한다. 미량의 산계 약액을 첨가한 초순수를 독자 개발한 전극으로 전기분해하는 세계 최초의 기술. 반도체나 액정, 전자부품 등 여러 분야에 새 장치를 판매할 것이다. 가격은 매분 3리터 제조장치가 2천만엔. 첫해 10대를 목표로 하고 있다. 현재 실리콘웨이퍼의 세정은 RCA방식이 주류. 이 방식은 염산이나 과산화수소를 혼합한 용액을 최대 120℃의 고온에서 사용한다. 퓨어트론이 개발한 장치는 전극으로 전기분해하는 독자적인 기술로, RCA세정보다 오염제거능력이 우수하다고 한다. 구리, 알루미늄 이외에 철, 니켈, 아연에 이용할 수 있다. 기존 산계 용액의 5분의 1에서 10분의 1정도의 농도로 대응할 수 있고, 배수도 10분의 1정도면 되기 때문에 배수처리 원가를 저감할 수 있어 환경에도 친화적이다. 또 매엽식이나 배치식 양쪽 다 사용할 수 있는 이외에온사이트 공급이기 때문에 약액의 보전과 수송 상의 위험도 없다. 퓨어트론은 앞으로 장치 판매 뿐 아니라 약품판매도 검토하고 있고 오존수 제조장치 등 기존제품과 조합하여 시장개척을 꾀해 나간다. (NK)