범용 직류 스팩터법으로 광촉매 산화티탄 매분 50나노미터의 성막제로 성공 靑山學院大學 이공학부의 重里有三 교수와 旭硝子중앙연구소는 범용적인 직류 스팩터법에 의한 광촉매 산화티탄의 고속박막 제조에 성공했다. 보통보다 환원 징후를 보이는 산화티탄 타깃을 재료로 하고, 직류를 사용할 수 있게 되어 매분 50나노미터의 성막속도를 달성했다. 기존의 유리코팅 장치가 필요하기 때문에 건축용, 자동차용 유리의 광촉매 기능화를 진행시킬 기술로 기대될 것 같다. 스팩터법은 졸겔법 등에 비해 높은 부착력, 높은 내구성의 성막기술. 티탄 하나와 산화 두개로 된 일반 산화티탄은 절연체이므로 직류방전 스팩터가 불가능하다. 따라서 고주파 스팩터나 반응성 직류 스팩터가 실행되고 있는데, 장치가 고가여서 원가가 높아진다는 문제가 있었다. 이번에는 산호의 공공(空孔)을 가진 타깃(티탄 하나에 산소는 평균 1.986개)를 산화도를 제어한 특수한 핫프레스법으로 제작했다. 비저항은 0.27옴센티미터로 아주 작고, 직류를 사용할 수 있게 되었다. 또 이 타깃은 일반 산화티탄보다 스팩터되기 쉽고, 성막속도는 약 20배 향상했다. 단순계산으로 원가는 5분의 1이하가 된다. 실제로 소성하여 산화티탄의 광촉매 활성, 초친수성을 확인했다. (NK)