볼라딘-규소 박막에서 ULSI 단층배선용 층간절연막에 필요한 실효적 유전율 2.7을 달성 일본 산업기술종합연구소는 규소계 하이브리드 수지인 볼라딘-규소 박막에서, 초대규모 집적회로(ULSI)의 다층배선용 층간절연막에 필요한 실효적 유전율 2.7을 달성했다고 발표했다. 차세대 ULSI 규격의 선폭 70나노미터에 대응하는 절연성능으로, 기계적 강도와 안정성을 가진 절연재료로 기대된다. 층간절연재료는 집적도가 올라감에 따라 절연성이 포인트가 된다. 따라서 産總硏의 內丸祐子 주임연구원은 볼라딘과 규소계 폴리머가 교대로 이어진 네트워크 구조의 수지를 개발, 최첨단전자기술개발기구의 井上正巳 주임연구원과 공동으로 박막화, 비유전율 2.1 이하가 가능하다는 것을 확인, ULSI의 절연막인 하드마스크재로서의 성능을 실증했다. 제막 방법은 간단한 도포법(스핀코트법)을 이용할 수 있기 때문에, 제조원가 저감을 전망할 수 있다. 또 반도체 제조공정의 에칭 행정(行程)에서 지구온난화 가스인 퍼흘올로카본(PFC)를 사용하지 않아도 가공할 수 있으므로, 반도체 제조 시의 환경부하 경감에도 공헌할 수 있을 듯. 막 특성에서는 경도 1기가펄스, 탄성률 15기가펄스로 기계적 강도도 충분. 내열성에서도 1% 중량감소 온도가 405℃에서 내열성 유기재료인 폴리이미드와 비교해도 1.46 이어서 광학재료로서도 사용할 수 있을 것 같다. 앞으로 품질의 안정화법 등을 개발함과 동시에 고집적화 기술의 검토를 실시한다. (NK)