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열처리가 불필요한 산화아연의 패터닝법 개발
  • 편집부
  • 등록 2003-07-11 15:56:39
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열처리가 불필요한 산화아연의 패터닝법 개발 물질·재료연구기구 물질연구소의 羽田肇 주임연구원과 河本邦仁 名大 교수 등은 저원가이며 열처리도 필요치 않은 산화아연의 패터닝법을 개발했다. 산화아연은 투명전극 재료나 발광재료로서 태양전지나 평면 디스플레이에의 이용이 기대된다. 그러나 종래의 스팩터링법이나 레이저 어플레이션법 등의 반도체용 제조 프로세스에서는 고가의 진공장치가 필요하여 높은 원가로 이어지는 이외에, 가열공정이 있기 때문에 내열성 기판을 사용해야 하는 등의 제약이 있다. 연구팀이 개발한 방법은 우선 기판을 화학용액 「페닐트리클로로실란」에 담가 유기박막층을 자기 조직화시킨다. 노광장치로 빛을 쏘인 부분의 박막을 파괴하여 파라디움 촉매액에 담그면 박막층이 남은 부분에만 파라디움 촉매가 붙는다. 이것을 아연금속을 녹인 중성반응 수용액에 담가 촉매가 붙은 부분에만 국소적으로 산화아연 나노입자를 선택석출시키는 것. 이 방법으로 1㎛의 라인패턴 묘화(描畵)에 성공. 원가 절감으로 태양전지가 디스플레이의 보급을 뒷받침할 수 있는 이외에, 기판 표면을 우선 촉매로 패터닝한 뒤에 국소적으로 금속을 석출시킨다는 생각은 열에 약한 플랙시블 디스플레이의 실용에도 공헌할 것 같다. (CJ)

 

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