東京대학 생산기술연구소의 立間徹 조교수 등은 광촉매에 자외선을 쏘이면 나오는 활성산소로 구리나 실리콘의 기판을 미세가공하는 기술을 개발했다. 폭이 약 5㎛의 가공이 가능. 진공이나 화학약품을 사용하지 않고 간편하다는 것이 이점이라고 한다. 2~3년 후에 차세대 표시장치인 유기 EL(일렉트로 루미네센스)등에 응용한다. 두께 1㎜의 유리 기판에 크롬 등을 말라 마스크를 만들었다. 그 위에 광촉매 산화티탄막을 두께 약 0.1㎛ 발랐다. 유리 측에서 자외선을 쏘이자 마스크를 통과하여 광촉매 층에 닿아 마스크로 가리지 않은 부분부터 활성산소가 발생했다. 자외선이 확산하지 않고 광촉매 층에 닿아 마스크에 충실하고 정도 높은 산화가공을 할 수 있었다. 가공에는 10분 정도 걸린다. (CJ)