東京都立대학의 益田秀樹 교수 등과 神奈川과학기술아카데미(KAST)는 직경 수 십 ㎚의 균일한 미립자를 효율적으로 만드는 방법을 개발했다. 금속막의 미세한 구멍을 통해서 압출하여 성형한다. 이 교수 등은 산화알루미늄 기판에 미세한 구멍을 규칙적으로 만드는 기술의 개발을 완료. 이번에는 직경 약 125㎚의 구멍이 500㎚ 간격으로 늘어선 기판을 만들었다. 에칭으로 구멍을 넓히고 압출하여 성형용 막으로 하였다. 실험에서는 산화규소를 사용했다. 막의 구멍을 통해서 규산나트륨 수용액을 핵산 속에 압출한 결과, 가느다란 방울이 되어 섞였다. 또한 탄산암모늄과 반응시키자, 규산나트륨 수용액의 방울이 굳어져 직경 약 80㎚의 산화규소 미립자가 생겼다. 기판 구멍의 크기를 바꾸면 입자를 더욱 미소하게 만들 수 있다. 반응성이 좋은 촉매나 구워서 굳혔을 때 균일한 고품질 세라믹스 등을 만들 수 있다. 앞으로는 광촉매에 산화티탄 등 고기능 재료에 대한 응용도 연구할 것이다. 지금까지도 같은 방법은 있었지만 직경 수 ㎛정도의 크기 밖에 만들지 못했다. (CJ)