한국표준과학연구원 레이저계측그룹(연구책임자 정세채 박사)은 지난 97년부터 지난해까지 5년간 기존의 레이저 가공이나 측정기술의 한계를 뛰어 넘는 펨토초 레이저 초미세 재료 가공기술을 개발했다. 그동안 반도체의 미세한 고집적 회로를 제작하는 데는 먼지 등 불순물을 제거하기 위한 청정실이 반드시 있어야 했다. 그러나 이 기술을 적용할 경우 식각작업에 필요한 청정실 등의 부대시설 없이 레이저 작업만으로 고집적회로 제작이 가능하다. 이 기술은 공초점 광학현미경 및 갈바노-미러 주사장치에 펨토초 레이저 운용기술을 접목, 2000㎜/sec의 높은 공정속도와 정밀도를 갖춘 화학약품을 사용하지 않는 청정 가공법으로 모든 가공재료의 삼차원 및 다중층 가공의 복잡한 공정을 획기적으로 줄일 수 있다고 한다.