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실용원적외선 분야별 관련 일본의 특허정보(49)
  • 편집부
  • 등록 2003-07-04 20:42:00
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처리방법 및 처리장치 東京일렉트론(주) 開03-124017◆H03.05.27 피처리체 위에 처리액을 공급 체재시키고, 피처리체 중심부 및 주변부에서 처리온도가 균일하게 되도록 상대적으로 가온 또는 냉각함으로써 처리 얼룩의 발생을 방지하여 고정도한 처리를 할 수 있게 한다. 반도체 장치의 제조방법 川崎製鐵(주) 開03-125462◆H03.05.28 도포절연막에 대한 열처리를 진공 하에서 원적외선 가열장치를 이용하여 실시함으로써 잔존〔OH〕기를 줄여 전기특성을 향상시킨다. 반도체 장치의 전극형성방법 東芝(주) 開03-133144◆H03.06.06 개구부를 통해서 금속 패턴의 증착을 실시, 이 증착진행에 동반한 개구부의 협착화에 대응하여 개구부 내의 반도체 기판 위에 대한 증착금속층 패턴을 끝이 가늘어지도록 형성함으로써 극미세 치수의 전극을 용이하게 형성할 수 있게 한다. 순수(純水) 인양 건조장치 세이코엡손(주) 開03-165031◆H03.07.17 건조수단으로써 제습기능을 부착, 열과의 병용으로 건조시킴으로써 건조시간을 종래보다 단축함과 동시에 기판의 온도저하를 꾀한다. 반도체 장치의 제조방법 川崎製鐵(주) 開03-190131◆H03.08.20 진공 하의 로드락실(室)에 설치된 카셋트로더에 수납된 반도체 웨하를 웨하 이동기로 한 장씩 반응실로 핸들링하고 진공 하의 반응실에 원적외선 가열장치를 이용하여 방사가열을 실시함으로써 도포절연막 속의 잔존〔OH〕기를 대폭 감소시킨다. 반도체 제조장치 三菱電機(주) 開03-227008◆H03.10.08 웨하에 웨트레지스트를 도포하는 공정에서 웨하의 가열을 원적외선을 발생하는 세라믹 히터로 함으로써 웨하를 베이크할 때의 온도의 승온특성과 균일성을 좋게 해서 웨하의 계면까지 균일하게 레지스트를 경화할 수 있게 한다. 프린트 배선판의 카본 저항체 형성방법 日本씨엠케이(주) 開03-297102◆H03.12.27 회로면에 라미네이트 필름에 도착한 열경화성 카본층을 피착, 이것을 회로에 필요한 배치 위치에 따라 열경화하고, 미경화층은 회로면으로부터 제거함으로써 항상 안정된 저항치를 갖는 카본 저항체를 얻는다. 반도체 장치의 제조방법 富士通(주) 開04-3931◆H04.01.08 기판에 도포한 SOG의 가열고화를 파장분포의 주체가 원적외 영역에 있는 복사선의 조사로 실시함으로써 형성되는 SOG막이 균질하게 탈가스된 것이 되도록 한다. 스팩터링 장치 日立製作所(주) 開04-32570◆H04.02.04 원적외선 성분을 복사하는 세라믹판에 기판을 평행으로 접근시킴으로써 균일성 높은 가열을 실현하여 재현성 좋게 기판의 베이킹을 실시한다. 차량용 발전기 三ツ葉 電機製作所(주) 開04-3931◆H04.01.08 스테이터 코어 및 이 스테이터 코어에서 돌출하는 스테이터 코일에 적외선 또는 원적외선을 방사하는 도료를 도포하여 스테이터 코일의 온도상승을 줄인다. 플라즈마 CVD장치의 웨하 가열기구 日立電子엔지니어링(주) 開04-35030◆H04.02.05 히터의 윗면을 압착접촉하고, 히터의 열을 축열하는 탄화규소 출열판 위에 웨하를 적치하는 금속제 균열판을 밀착하여 구성함으로써 웨하의 불균일한 온도를 해소하여 가열시간을 단축할 수 있는 가열기구로 만든다. 저항 페이스트의 소성 방법 아사히 화학연구소(주) 開04-38803◆H04.02.10 기판에 도포한 저항 페이스트를 원적외선을 이용하여 최초로 특정한 온도 이하에서 소정시간 가열하고 그 후에 납땜 온도 부근에서 이 1/18 정도의 시간가열하는 것처럼 온도 프로파일로 가열소성함으로써 규격 내의 면적저항치 및 납땜 침전 변화율을 충분히 얻는다. 프렉시블 인쇄회로기판의 제조방법 信越화학공업(주)開04-79292◆H04.03.12 큐어를 원적외선 큐어로 및 가열롤을 병용하여 연속적으로 실행함으로써 처리시간을 단축한다. 액정표시소자의 제조방법 옵트렉스(주) 開04-93923◆H04.03.26 용제를 첨가한 배향막 형성용 도포액을 기판 위에 도포하고, 감압하에서 소성을 함으로써 배향막 속의 용제의 잔존을 없애 양호한 품위의 액정표시소자를 얻는다. 박막 및 전자사진 감광체의 제조방법 및 인쇄장치 出光興産(주) 開04-122947◆H04.04.23 소수성 물질분말을 계면활성제로 얻은 분산액 혹은 용액 속에서 기판을 가온하고, 기판 위에 소수성 물질막을 형성함으로써 우수한 균일성 및 감광체 특성을 얻는다. 인쇄회로용 동장(銅張) 적층판 富士通(주) 開04-139888◆H04.05.13 접착제인 합성수지에 수산화 알루미늄 파우더를 혼입함으로써 납땜성능의 향상을 도모한다. 실장기판 등의 건조방법 및 그 장치 山田興産(주) 開04-157789◆H04.05.29 세정수로 세정된 세정수가 부착한 상태의 실장기판 등을 진공분위기 내에서 가열함과 동시에 진동을 가해 건조함으로써 실장기판 등의 건조를 효율적으로 실시한다. 반도체 플라스틱 패키지의 제조방법 日立製作所(주) 開04-218931◆H04.08.10 칩을 탑재한 리드플레임을 성형기에서 레딘몰드하고, 틀을 연 후 가열기구에 의해 연속적으로 팩케이지를 가열, 레딘을 반응, 경화시킨 후에 냉각함으로써 잔류응력을 저감하여 생산의 합리화를 꾀한다. 자외선 오존 세정장치 日本레이저電子(주) 開05-38430◆H05.02.19 L-B막 형성용 기판을 단시간에 세정할 수 있는 세정장치의 제공. CVD박막형성장치의 기판 유지대 大阪瓦斯(주) 開05-62908◆H05.03.12 기판이 대구경화하여 박막형성을 필요로 하는 처리대상면의 면적이 커진 경우에도 이 대상면을 가능한 한 균일하게 가열할 수 있는 가열구조를 갖춘 CVD박막형성장치의 기판유지대를 얻는다. CVD박막형성장치의 기판 유지대 大阪瓦斯(주) 開05-59556◆H05.03.09 예를 들어 기판이 대구경화하여 박막형성을 필요로 하는 처리대상면의 면적이 커진 경우에도 이 기판을 가능한 한 균일하게 가열할 수 있고, 균일한 박막을 형성할 수 있는 가열구조를 갖춘 CVD박막형성장치의 기판 유지대를 얻는 데에 있다. 구리 폴리이미드 기판의 제조방법 住友金屬鑛山(주) 開05-114779◆H05.05.07 폴리이미드 수지 필름 표면의 친수화 처리를 특정한 포수(抱水) 히드라딘 수용액을 이용하여 구리와 폴리이미드 수지 필름의 계면에 니켈 또는 그 합금, 또는 코발트 또는 그 합금에 의한 특정한 중간층을 설비함으로써 기판 고온 시에 구리의 확산을 방지한다. 양면 기판 및 그 제조방법 日東電工(주) 開05-152699◆H05.06.18 실질적으로 구리박과 폴리이미드 수지층으로 된 양면 기판에 있어 내약품성과 내식성, 접착성이 우수한 양면기판 및 그 제조방법을 제공한다. 핀 접합장치 및 핀 접합방법 日本電氣(주) 開05-198724◆H05.08.06 기판유지 지그 위에 기판을 얹고 핀 유지 지그에 핀을 배치한 뒤 영구자석 또는 전자석의 자력에 의해 기판 이면이나 핀을 흡입한 상태에서 가열하고 미리 기판의 패드 위에 공급된 접합재료에 용융하여 핀을 배드에 접합함으로써 핀의 수를 많게 혹은 핀의 면적을 좁히도록 한다. 다층 프린트 배선판용 적층판의 제조방법 日立化成工業(주) 開05-251866◆H05.09.28 구멍뚫기 가공이 용이하며 가볍고 내금속 마이그레이션성이 우수한 다층 프린트 배선판용 적층판을 얻는다. 감방사선성 조성물 日本合成고무(주) 開05-224422◆H05.09.03 특정한 식으로 나타내어지는 중합체 및 감방사선성 산형성제를 함유함으로써 미세가공을 안정적으로 할 수 있으며 고감도, 고해상도로 내드라이에칭성, 현상성, 접착성, 내열성 등의 성능이 우수한 레디스트로서 적합한 감방사선성 조성물을 얻는다. 복합금속산화물 피막을 갖는 기판의 제조법 日本寫眞印刷(주) 開05-247657◆H05.09.24 특정금속의 알콕시계 화합물 및 활성 메틸렌 화합물을 포함하는 유기용제 용액과 수용 알루미나졸로 된 혼성졸을 기판 위에 도포, 건조한 후, 열처리 혹은 전자파 처리함으로써 기판 위에 투명한 복수 금속산화물 피막을 형성시킨다.

 

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