姬路공업대학 고도산업과학기술연구소의 望月孝晏 교수 등은 레이저 플라즈마 X선을 이용한 극단자외선(EUV)광원장치를 개발했다. 클라이오(초저온) 처리한 타깃재의 회전공급장치를 고안한 것이 포인트. 50나노미터 이하의 선폭에 대응한 차세대 리소그래프나 가공기의 고출력, 고휘도 광원으로 응용할 수 있다. 액체, 고체 두 타입의 타깃 공급장치를 올 여름까지 시작한다. 이 장치는 타깃재 공급장치, 레이저 발생장치 및 광학계로 구성된다. 펄스레이저광을 타깃으로 조사하여, 타깃의 플라즈마화로 생성한 레이저 플라즈마 X선(LPX)를 집광한다. LPX는 방사광에 비해 장치가 소형이므로 여기광에 따라서는 X선의 연속발생도 가능하다. 따라서 가스방전과 병행한 EUV 광원방식으로 기대되고 있다. 키세논을 냉동하여 액화, 고체화한 클라이오 타깃을 채용했다. 이것을 냉각한 회전식 저온 로터를 도입, 표면에 효율적으로 부착시킨다. 두께가 300마이크로미터에서 500마이크로터가 된 시점에서 레이저를 조사하여 X선을 얻는 구조. 로터를 회전시킴으로써 연속발생이 가능해지고, 평균하여 고출력을 발생할 수 있다. 또 액체인 경우는 특수한 노즐로 공급한다. 키세논은 화학적으로 불활성으로, 타깃재가 데블리(파편)이 되어 광학계에 부착하는 일은 없다. 또 이온밀도가 높으므로 레이저에서 X선으로의 에너지 변환효율도 높다고 보고 있다. 시작기의 변환효율을 더욱 높여 앞으로는 광원개발에 대해 특화된 새 회사를 발족시킬 구상도 갖고 있다. (NK)