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다성분 산화물의 MOCVD 개발 조성 재현성 비약적상승 FT-IR로 현장관찰
  • 편집부
  • 등록 2003-07-05 21:41:41
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東京공업대학의 舟窪浩 조교수 등 산학공동팀은 강유전체 메모리 등 다성분 산화물 박막의 조성재현성을 비약적으로 높일 수 있는 피드백(귀환)기능이 있는 유기금속기상성장장치(MOCVD)를 개발했다. 프리에 변환적왹분광(FT-IR)을 그 자리에서 모니터를 이용, 귀환제어하여 종래 불가능했던 성박 시의 각 성분마다의 정밀제어를 실현했다. 강유전체인 티탄산 지르콘산연(PZT)에서 높은 재현성을 확인, MOCVD에 의한 양산화가 가능하게 된다. 신기술은 각 조성원소마다의 액체원료를 기화, 혼합하는 도중에서 FT-IR로 현장 관찰하여 결과를 제어해서 귀환한 뒤 성분마다의 유량을 고정도 제어한다. 개발한 소프트웨어로 원료의 공급속도와 기상 중의 반응을 순식간에 해석하고 그 결과를 원료공급계에 귀환하여 조성을 고온에서도 안정화한다. 종래의 MOCVD에서는 기화, 혼합하기 전 단계에서만 제어할 수 있어 조성의 재현성을 얻기까지 장기간의 반복 시행이 필요했다. 또 혼합 후의 각 원료간에 반응이 있어서 파악하기 힘든 문제가 있었다. 신기술로 PZT를 35나노미터까지 박막화하여 모바일 응용에 없어서는 안될 15볼트 저전압 동작이라는 고성능을 실현했다. 강유전체 메모리에 사용되는 PZT는 지금까지 졸겔법으로 양산화되었다. 앞으로의 고집적화를 생각하면 단차피복성 등이 우수한 MOCVD에 의한 양산이 불가결하다. 신기술은 MOCVD가 많이 이용되고 있는 화합물 반도체도 포함하여 실리콘 화합물, 강유전체 산화물, 고온초전도체나 거대자기저항소자 등 대부분의 다성분 산화물의 박막형성에 적용할 수 있다. 개발에는 東工大이외에 日本파이오닉스(東京都 港區, 사장 北原宏一), 베네솔(神奈川縣 相模原市, 사장 田中照男), 사이언스 테크놀러지(埼玉縣 入間市, 사장 吉村俊秋)가 참여. 3사 각각 주력 요소제품부터 사업화에 들어간다. (NK)

 

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