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신재료·신기술 해외정보(14건)
  • 편집부
  • 등록 2006-03-15 13:49:33
  • 수정 2010-01-09 11:53:00
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산화아연제 양산에 한 걸음
인공수정의 요령으로 대형의 결정 생성

청색 LED(발광다이오드)의 새로운 재료로 원료가격이 싼 산화아연에 대한 기대가 높아지고 있다. 東京電波는 인공수정의 제조 노하우를 살려서 東北大學과 공동으로 대형 산화아연의 결정을 만드는데 성공했다. 과제였던 결정의 효율생산에 길을 열어 양산에 한 걸음 다가갔다. LED 메이커도 이 재료를 사용한 LED 개발을 시작하고 있다.
東京電波에는 대학·기업부터 군사관련 연구소까지 국내외에서 주문이 끊이지 않는다. 이러한 연구개발용 주문이 늘고 있어 이번에 산화아연의 단결정 육성로를 몇 기 신설한다.
東京電波가 산화아연결정의 생성기술에 대한 연구를 시작한 것은 2000년. 이 결정에 대해 연구해 온 東北大學의 福田承生 교수가 ‘매상이 100억 엔을 넣는 소재로 성장할 가능성이 있다’고 추천한 것이 계기였다. 熊谷秀男 사장 등 경영진은 IT(정보기술)거품, 그 붕괴의 과정에서 수정부품 각사가 일제히 증산했다가 가격하락을 초래하는 악순환을 재삼 목격했던 탓에 새로운 사업의 필요성을 통감하고 있었던 시기였다.
산화아연의 결정성장에는 인공수정의 육성에 사용하는 ‘수열합성법’이라고 하는 기술을 응용했다.
작은 산화아연 결정 조각을 고온·고압의 로에 넣고, 약 2개월에 걸쳐서 직경 3인치의 결정으로 성장시킨다. 산화아연 결정은 천연에 존재하지 않아 손에 넣는 것 자체가 어렵다.
福田교수는 씨앗이 될 최초의 결정을 제고함과 동시에 기술면에서도 조언을 해 주었다.
수열합성법을 사용한 양산은 해외 등에서 과거에 시도되었으나 불순물이 많이 생기는 결점이 있었다. 東京電波는 육성로의 안쪽을 두께 0.3밀리의 백금막으로 감싸는 등의 연구로 불순물이 들어가는 것을 억제했다. 결정육성에 적합한 조건을 찾는 것은 끈기가 필요한 작업으로 실패의 연속이다. 2개월이 지나 로를 열어보니 아무것도 생기지 않은 때도 있었다. 결정의 크기를 직경 3인치까지 크게 만드는데 5년이 걸렸다.
산화아연은 일찍이 청색 LED의 재료로서 유망시되었던 시기가 있었다. 질화갈륨을 사용한 청색 LED가 실용화에서 앞섰기 때문에 기업이나 대학 등이 산화아연의 연구에 힘을 쏟지 않았다. 그러나 원료 가격은 갈륨 1그램이 50엔 정도인데 대해, 아연 1그램은 0.5엔 이하이다. 즉 100분의 1이다. 롬은 얼마 전 산화아연을 사용하여 저가에 휘도가 높은 청색 LED를 상품화할 계획이라고 밝혔다. 재료가 질화갈륨에서 일거에 바뀔 가능성도 생기기 시작했다.
LED 이외의 용도도 유망시되고 있다. 그 대표적인 것이 암 검사에 사용하는 양전자 방사단층촬영장치(PET)의 센서용이다. 암세포에서 나오는 감마선을 주워서 발광하는데 현재의 소재에 비하면 발광시간은 수백분의 1로 짧다. 빛이 도달하는 시간의 차이로 암세포의 위치와 크기를 보다 정확하게 알 수 있다. 현재 1대 당 5억 엔 이상인 장치가 2~3억 엔 정도가 되는 등 원가도 삭감할 수 있다고 한다.
하지만 질화갈륨도 발광에 성공한 뒤 제품화까지 몇 년이 걸렸다. 산화아연의 청색 LED가 실용화되는 것은 아직 먼 훗날의 일이라는 목소리도 있다. 다만 東京電波가 대형 결정을 만드는데 성공했다는 것을 보고 다른 수정부품회사와 화학메이커 사이에서 산화아연결정의 제조 방법 연구에 착수하려는 움직임이 확대되고 있다. LED시장이 확대하는 가운데 이 결정이 대형 상품으로 커 나갈 것임은 틀림없는 사실로 보고 있는 것 같다.
  (일경산업)


반영구적 터치패널 고분자 배열 강화제로 고정
100만 회, 성능 유지
富士通硏究所는 휴대전화나 휴대정보단말기(PDA)등에 사용하는 터치패널의 내구성을 높이는데 성공했다. 전극의 재료를 개량하여 100만 번 입력 작업을 반복해도 터치패널의 성능을 떨어지지 않도록 했다. 종래품은 50만 번이 한계였다. 이르면 2년 이내에 제품화될 전망이다.
투명전극 필름에 사용되고 있는 유기화합물의 도전성 고분자에 경화제를 넣어 물분자가 침투해 들어와도 고분자의 구조가 흐트러지지 않도록 했다.
터치패널은 틈을 두고 서로 마주 한 전극끼리 접촉시켜서 위치를 읽는다. 고분자의 배열을 고정하면 전기저항치의 증가를 억제할 수 있기 때문에 정보를 읽는 감도를 유지할 수 있다.
섭씨 60도, 습도 95%의 조건에서 500시간 사용하는 테스트를 실시했다. 경화제를 넣지 않을 경우는 저항치가 사용 전에 비해 70% 증가했으나, 경화제를 넣으면 저항치의 증가를 2.5%로 낮출 수 있었다. 여름철에 고온다습해지는 차 안 등에서 사용이 가능해진다.
종래품은 전극 필름재료에 ITO(산화인듐주석)를 사용했다. 이때 펜 등으로 입력 작업을 반복하면 ITO에 서서히 갈라짐이 발생하여 도전성이 떨어진다. 원가도 일반적으로 도전성 고분자보다도 높다고 한다. 富士通硏은 앞으로 샘플출하 등을 검토한다.
         (일경산업)


자기헤드용 감도 높은 새 소자 개발
초고밀도기록에 길
산업기술종합연구소와 진공장치 메이커인 아네르바(東京都 府中市, 사장 今村有孝)는 현행의 2배 이상인 초고밀도 기록에 길을 열 자기헤드용 소자를 개발했다. 하드디스크용으로 기록한 자장정보를 고감도로 검출할 수 있고, 잡음도 적다. 현행의 제조 장치를 그대로 이용할 수 있어 조기의 실용화를 기대할 수 있다고 한다.
개발한 것은 차세대 자기헤드 소자의 유력한 후보 가운데 하나라고 알려져 있는 ‘터널자기저항(TMR)소자’.
하드디스크는 정보를 자장의 방향으로 기록, 자기헤드는 그 차이를 전극저항치의 변화로 읽어낸다. 기록밀도를 높이려면 헤드의 감도를 올릴 필요가 있고, 헤드가 파악할 수 있는 전기저항 변화의 폭(자기저항비)을 크게 할 필요가 있다. 한편 잡음을 억제하기 위하여 전기저항치는 낮춰야만 한다.
개발한 소자의 전기저항치는 지금까지 발표된 소자와 같은 낮은 수준이지만, 실온에서의 자기저항비가 종래의 20%에서 140%로 대폭 향상되었다. 1평방인치 당 기록밀도가 200기가비트 이상인 차세대 초고밀도 하드디스크의 자기헤드가 요구하는 조건을 만족시킨다. 새 소자는 산화마그네슘과 금속 마그네슘 박막을 두 개의 전극 사이에 끼우는 새로운 구조이다. 차세대 자기헤드소자로서는 ‘거대자기저항(GMR)소자’도 유력시되고 있으나, 産總硏은 이번 성과로 TMR소자 쪽이 리드하는 상황이 되었다고 보고 있다.
(일경산업)


실리콘 기판 위에 강유전체의 막을 적층하는 기술 개발
富士通硏究所와 東京工業大學은 실리콘 기판 위에 광학재료가 되는 ‘강유전체’ 박막을 만드는 기술을 공동으로 개발했다. 실리콘 기판과 강유전체 결정 사이에 복수의 층을 겹쳐놓아 빛이 통과하기에 충분한 두께를 갖는 막을 형성할 수 있었다. 실리콘 기판과 광학부품의 일체화를 가능케 하는 기술로, 5년 후를 목표로 이것을 일체화한 반도체 칩을 실용화할 계획이다.
복수의 화합물을 레이저 빛으로 증발시켜 실리콘 기판 위에 부착시켰다. 필터를 통과시켜서 큰 입자를 제거해 실리콘 기판의 산화를 막는 산화지르코늄 등 두께 228나노미터의 5개 중간층을 만들었다. 그 위에 원자의 배열이 정리된 납, 마그네슘, 니오브, 티탄으로 된 두께 2마이크로미터 이상의 강유전체 결정막을 형성할 수 있었다.
종래의 강유전체와 비교하면 1.5배의 광학특성을 갖는다는 것을 확인했다. 이 기술을 응용하면 지금까지 배선으로 연결해 왔던 광신호 처리용 광학부품과 대규모 집적회로(LSI)를 하나의 칩으로 만들 수 있어 광통신 시스템의 소형화로 이어진다. 제조원가의 저하로도 이어진다.
현재의 기술로는 4평방센티미터의 실리콘 기판에서만 막을 형성할 수 있다. 앞으로 범용품인 대면적 실리콘 기판에도 막을 만들 수 있도록 기술의 개발을 서두른다.           (일경산업)


방열시트의 새 재료 개발, 저가로 제조가능
三井化學은 産業技術總合硏究所와 공동으로 반도체 등의 전자부품이 과열되지 않도록 하는 방열시트용 신재료를 개발했다. 재료를 제조할 때의 에너지 원가를 종래 재료의 반 이하로 낮출 수 있다. 앞으로 三井化學은 신재료를 사용한 방열시트를 개발하여 올해 안에 샘플 출하를 시작한다. 2년 내의 상품화를 목표로 한다.
신재료는 직경 1~2마이크로미터의 질화알루미늄 분말에 질화알루미늄 나노입자를 넣어서 소성하여 동 100마이크로미터의 공 모양으로 만든 것이다. 방열시트는 신재료를 수지와 섞어서 만든다.
분말만을 사용했던 종래 방법에 비하면 접촉 면적이 커지고, 200도 이상 낮은 섭씨 1600도에서 공 모양으로 만들 수 있게 되었다. 소성시간도 지금의 반 이하로 단축하였다. 에너지 원가를 55~65% 삭감할 수 있어 제조원가의 억제로 이어진다.
단위면적 당 열의 전달도도 종래품보다 20~30% 높아지리라 계산하고 있다. 三井化學은 앞으로 이 재료를 사용하여 방열시트 개발을 서두른다.
         (일경산업)


세라믹스 사용한 방열부재 개발
좁은 틈새도 넣기 쉬워 전자제품 소형화 가능
沖電氣工業은 세라믹스 등을 사용한 효율 높은 방열부재를 개발, 판매를 시작했다. 세라믹스를 원료로 한 방열재료를 얇은 구리박 등과 조합시켜서 형상도 연구했다. 종래형 방열부재에 비해 40% 정도의 체적, 8분의 1의 중량으로 같은 정도의 방열효과를 실현할 수 있다고 한다. 좁은 틈새 등에 넣기 쉬워 전기제품의 소형화에 도움이 된다.
개발한 부재는 ‘XCooL’이다. 沖電氣와 벤처기업인 세라미션이 공동개발한 세라믹스 방열도료 ‘세라크α’와 프린트 기판 등에 사용하는 내열성 등이 우수한 폴리이미드 수지, 얇은 구리박 등 세 재료를 겹쳐서 판 모양으로 만든다.
또 방열효과를 최대한 발휘시키기 위해 이 판상재료를 사각 통 모양으로 가공, 그 속에 둥근 통을 이중으로 넣어서 접은 구조로 만든다. 얇은 재료의 조합이기 때문에 탄력서도 높다.
전기제품 등의 밀폐된 케이스 안에서의 이용을 상정하고 있고, 부품과 케이스 사이에 끼워넣을 수도 있다. 종래의 방열부재는 이렇게 사용하면 부품에 힘이 가해져 고장이 일어날 가능성이 있다고 하여 경원시되었다.
세라믹스 방열도료는 여러 가지 재료에 발라서 가공하기 쉽다는 특징이 있기 때문에 沖電氣는 앞으로도 이것을 응용한 신제품 개발과 용도개척을 추진해 나갈 것이다. 세라믹스 재료를 사용한 방열부품으로 연간 10억 엔의 판매를 목표로 하고 있다.  (일경산업)

 

카본나노튜브 이용한 고분해능 원자간력 현미경 탐침의
간단하며 실용적인 제작법 개발

물질·재료연구기구 재료연구소의 唐 捷 주간연구원은 미국 노스캐롤라이나 대학과의 공동연구로 전기영동법에 의한 카보나노튜브 칩(CNT) 을 이용하여 고분해능을 가진 원자간력 주사형 현미경(AFM)용 탐침을 제작하는데 성공했다.
CNT는 직경이 약 1㎚, 길이가 약 1~10㎛이라는 극미세의 원통형 물질(통상탄소분자)로, 높은 탄력성과 잘 파손되지 않는다는 점에서 고분해능과 동시에 장수명의 리소그래피 프로브로서 기대되고 있다. CNT의 연구는 지금까지 여러 가지 형태로 이루어져 왔는데, 형상제어의 곤란함, 낮은 재현성, 또 제작 프로세스의 난해성으로 간편한 방법으로 재현성 좋게 형상제어가 용이한 제작법이 요망되어 왔다.
이번에 개발한 방법에 의하면 용매는 물, 온도는 실온이라는 극히 통상적인 환경 하에서 거의 100%의 확률로 카보나노튜브 프로브가 형성되었고, 또 프로브를 부착시킨 실리콘 칩에 거의 평행으로 배향할 수 있으며, 게다가 길이도 실리콘 칩의 인장 속도 등을 변화시킴으로써 용이하게 제어가능하게 되어 지금까지의 여러 가지 문제를 완전히 해결할 수 있다.
이번에 성공한 전기영동법(電氣泳動法)에 의한 CNT프로브의 제작기술은 종래의 CNT프로브 제작기술에 대하여 두 가지 괄목할만한 특징을 갖추고 있다. 한 가지는 장치의 간단함, 또한 프로세스의 단순함으로 길이를 제어할 수 있는 CNT프로브의 제작을 저가로 할 수 있다는 점이다. 지금까지 시도되었던 제작법의 경우는 상당히 우발적이어서 재현성이 낮았으나, 이번의 방법으로는 최초로 자동화도 가능하다. 두 번째는 순도가 높고 같은 방향으로 일정하게 늘어선 CNT프로브의 길이 제어가 가능하다는 점이다.
이 성과로 새로운 나노 구조의 제작·해석을 위한 방법을 제공할 수 있으며 또 고분해능이라는 특성을 살려서 나노 분석 디바이스 실현을 위한 연구개발을 추진함과 동시에 생물의재료분야에서의 응용전개를 지향한다.
또한 이 방법은 필요에 따라서 다양한 금속·나노튜브 프로브를 제작할 수 있으며, 대량생산에도 적합하다는 점에서 이미 기업에서도 사용하고 있어 상품화도 조만간 이루어질 것이라고 한다.                         (CJ)


고강도·저탄성률 알루미늄 합금 복합재료 개발
로봇 부품 등 저가화로 이용 기대
산업기술총합연구소 서스테너블 매너리얼 연구부문 금속재료 조직제어연구 그룹은 인장강도가 높고 탄성률이 낮은 알루미늄 합금 복합재료를 개발했다. 탄성률이 낮은 탄소섬유를 강화재료로 이용함으로써 상반되는 특성을 양립시켰는데, 인장강도는 600메가펄스로 높고, 탄성률은 50기가펄스로 낮은 재료를 실현했다. 로봇의 관절부분이나 안경테, 골프 클럽 등에 대한 이용이 전망되며, 앞으로 실용화를 목표로 한다.
티탄합금에는 고강도이며 저탄성률인 재료가 있는데, 고가인 점이 걸림돌이었다. 따라서 경량이며 인장강도가 높은 알루미늄 합금을 사용한 복합재료를 개발하기로 했다. 이로써 저가화를 꾀하여 용도확대를 할 수 있게 되리라고 판단했다.
제조법은 종래의 복합재료와 거의 같은데, 알루미늄 합금 분말과 액체에 가까운 미결정의 아몰퍼스 상태의 탄소섬유를 혼합하여 진공 속에서 소결하여 고체화한다. 고체화한 것을 압출성형이나 압연으로 판상으로 마들어서 제품재료로 쓸 수 있다.
700℃ 이상에서 소결하면 알루미늄이 녹아서 강도가 떨어지는 요인이 되기 때문에 500℃에서 소결한다. 소결 도중에 알루미늄과 탄소가 확산, 알루미늄과 탄소섬유의 경계에서도 강하게 결합한다. 그렇게 탄성률이 낮다는 특성을 그대로 살린 채, 인장 강도가 높은 복합재료를 만들 수 있었다. 이렇게 고강도이며 저탄성률인 복합재료는 지금까지 없었다고 한다.
2002년도부터 文部科學省의 ‘산학관 연대 이노베이션 창출 사업’에 채택되어 京都대학 대학원과 東洋알루미늄(大阪市 中央區)의 협력을 얻어서 개발했다. 앞으로는 알루미늄 합금 이외의 재료와 이번에 사용한 탄소섬유를 조합시켜서 같은 복합재료를 개발해 나갈 계획이다.                 (NK)


카본나노튜브 밀도를 정량 측정하는 방법 개발
TEM 단면상을 이용

富士通과 富士通硏究所(川崎市 中原區, 사장 村野和雄)은 기판에서 배향성장한 고밀도 카본나노튜브(CNT)의 밀도를 처음으로 정량 측정하는 방법을 개발했다. LSI의 비어(접속공 接續孔) 배선용으로 다층 CNT에 응용하여 실현했다. 평면 텔레비전용 CNT전자총의 밀도 최적화 등에도 널리 응용할 수 있다.
새 방법은 CNT의 밀도를 절대평가하기 위해서 단면 TEM상의 이용을 시도했다. 기판에 성장한 CNT를 그대로 수지로 굳혀 다이아몬드 커터로 얇게 슬라이스한 단면은 TEM으로 관찰한다. 슬라이스 간격은 80나노미터로 높인 방향의 밀도변화도 계측할 수 있다.
TEM단면상을 확대하면 CNT의 단면이 보이고, 그것을 세어서 CNT의 밀도를 정량적으로 짐작할 수 있다. 화학기계연마(CMP)법 등 독자적으로 시료를 만드는 일도 시도했다. 그러나 TEM 시료 만들기의 종래 방법이 수지와 CNT와의 젖음 정도이나 탈기성도 좋고, 공기포가 빠지기 때문에 CNT에 대한 응용이 가능해졌다고 한다.
다층 CNT를 LSI배선에 응용할 경우, 그 저항은 밀도와 관계된다. 지금까지 밀도를 정량 평가하는 방법이 없어서 저항치를 객관적으로 비교 평가할 수 없었다.
개발한 방법은 성장밀도를 평가하는 표준으로 활용할 수 있다. 이 회사는 이미 비아 배선을 평가하여 사진의 CNT밀도가 1평방센티미터 당 약 5×1010개라는 견적을 내었다고 한다.
LSI분야 이외에도 CNT를 전자총으로 이용하는 평면 텔레비전에서 CNT밀도의 최적화와 열전도성이 우수한 CNT의 특징을 이용한 히트싱크용 CNT의 밀도평가 등 폭넓은 분야에서 평가방법으로 응용할 수 있을 것 같다.                            (NK)


카본나노튜브 원료로 값싼 헥산 이동
群馬공업고등전문학교의 太田道也 조교수 등 연구팀은 카본나노튜브를 저가·단시간에 대량으로 제조할 수 있는 신기술을 개발했다. 원료는 가솔린이나 벤젠의 성분인 헥산, 시크로헥산 등 값싼 것. 이들에 유기금속화합물 몇 %를 혼합하고 800~1000℃의 전기로에서 1초 동안 급속가열하면 카본나노튜브 다발이 생성된다.
이 기술은 튜브의 지름, 길이를 일정하게 하고 정렬시킬 수 있다. 지름과 길이는 촉매농도 등을 바꿈으로써 어느 정도 제어할 수 있다고 한다. 종래의 제조방법에서 필요했던 고가의 장치가 필요치 않게 되며, 지름·길이가 일정치 않다는 과제의 해결로 이어진다.                            (NK)


세라믹스와 수지를 포함한 복합 도금 가공 본격화

田口電機工業(佐賀縣 基山町, 사장 田口英信)은 세라믹스와 수지를 포함한 복합 도금 가공의 수주를 4월부터 본격화했다. 복합 도금의 전용 라인을 정비하고 있는 제2공장이 가동했기 때문이다. 우선은 금형 가공을 중심으로 수주 확대를 꾀하고 있다. 이미 금형과 기계부품에 대한 가공을 수주했다.
본사 부지 내에 정비 중인 제2공장의 연면적은 350평방미터이다. 복합 도금 라인과 금형을 대상으로 한 라인을 갖추고 있다. 전자현미경 등 품질관리설비를 포함하여 약 4,000만 엔을 투자했다.
세라믹스와 수지를 포함한 복합 도금 가공은 세라믹스와 수지를 도금액 속에서 균일하게 분산시키는 일이나 막 두께의 제어 등 품질관리가 어렵다. 따라서 이 회사는 복합도금 담당기술자를 육성함과 동시에 전용 라인의 정비를 추진해 왔다.
복합도금을 금형으로 가공했을 경우, 내마모성이 향상된다. 틀과 틀을 분리하기 쉽게 할 수도 있고, 금형을 사용한 프레스 가공의 스피드 향상에도 이어진다. 또 환경부하의 큰 물질을 사용하지 않고 같은 효과를 얻을 수 있는 도금을 가능케 한다.
이 회사는 현재까지 10종류 이상의 복합도금 가공이 가능한 체제를 정비했다. 또한 독자의 복합도금 개발을 추진하고 있다.                    (NK)
카본나노튜브 제조 신기술 개발, 벤처 창업

名城대학의 安藤義則 교수 등은 독자적으로 개발한 신기술에 의한 카본나노튜브(통상탄소분자)를 제조·판매하는 벤처 기업 ‘名城나노카본’(名古屋市 中區)을 설립했다. 신기술은 종래의 방법에 비해서 100배 이상의 양산이 가능하다.
安藤교수 등은 아크 방전법이라는 신기술로 종래는 하루 몇 십 밀리그램이었던 나노튜브의 생성량을 몇 그램으로 늘렸다. 앞으로 나노튜브의 양산을 진행, 대량 판매처에는 기술공여도 시야에 두고 사업을 전개한다.
자본금 3백만 엔으로 이 교수 연구실의 橋本剛 연구원이 사장으로 취임했다.
나노튜브는 연료전지나 액정 텔레비전, 바이오테크놀로지 등 폭넓은 분야에서 이용이 기대되고 있다. 새 회사는 나노튜브를 사용한 상품개발을 지향하는 기업이나 대학의 연구소에 판매하고, 5년 후에 1억 엔의 매상고를 목표로 한다.
기술개발은 愛知縣과 名古屋市가 공동으로 새 산업의 육성을 목적으로 하는 ‘지역 지적클러스터 창성사업’의 보조를 받고 있다.          (일경산업)


나노튜브에 전자 가두는데 성공
理化學硏究所와 과학기술진흥기구(JST)는 카본나노튜브(통산탄소분자) 속에 전자를 가두는데 성공했다. 자장을 가해서 전자의 에너지 상태를 바꾸면 양자 컴퓨터의 기본적인 구조인 양자 비트에 가까운 상태가 가능하다고 한다.
직경 1나노미터, 길이 300나노미터의 튜브 양끝에 금속전극을 붙였다. 거의 절대 영도의 조건 하에서 나노튜브에 근접한 다른 전극에 전압을 가하면 전자가 하나씩 금속전극에서 나노튜브 안으로 이동, 약 100나노초 가량 가둘 수 있었다.
자장을 가하면 전자의 에너지 상태가 바뀌어 양자 비트로 생각되는 상태가 된다고 한다. 초고속 계산이 가능한 양자 컴퓨터의 개발로 이어질 가능성이 있다. 다만, 실용화하려면 양자 비트를 자유로이 조작할 수 있게 되어야 하므로 연구팀은 앞으로 조작기술의 개발에 힘쓴다.          (일경산업)

베릴륨구리의 경화 처리 기술 개발
千代田 제1공장(東京都 江市, 사장 鈴木信夫)은 약 60℃의 낮은 온도에서 베릴륨구리에 경화 처리하는 기술을 확립했다. 독자의 탄화크롬 도금 기술 ‘다이크론’을 활용한 것으로 가열에 의한 모재의 정도 문제를 해결하면서 질화에 의한 처리의 약 2배 경도가 되는 HV1000을 실현했다.
베릴륨구리는 전도성이 높고, 굴절성과 부식, 마모, 피로 등에 대해 우수하여 사양 용도의 확대로도 이어질 듯하다.
이 회사의 다이크론은 탄화크롬 합금을 코팅하는 경질탄화 크롬 도금이다. 마찰계수가 통상의 크롬 도금의 약 반 이상으로 작은 이외에 균열이나 박리에도 강하다는 특성이 있다. 단, 구리계 재료는 표면이 산화되기 쉽기 때문에 도금 처리를 하기가 어렵다.
또한 경화를 하기 위해 니켈 등으로 코팅을 할 경우에는 고열을 가한다는 점에서 높은 정밀도가 요구되는 대상물에 대해서는 이용이 어려운 경우가 있었다.
이 회사에서는 베릴륨에 아연치환처리를 함으로써 산화막을 제거, 도금 처리한다.
도금 온도가 60℃로 낮기 때문에 정밀도를 손상시키는 일 없이 모재의 경질화가 가능하게 된다.
원가는 크롬 도금의 약 3배 정도. 베릴륨은 전자기기 관련이나 용수철 재료 등에 사용되는 일이 많은데, 열효율이 좋다는 점을 살린 잉크젯 금형에 대한 응용 등 사용 용도의 확대가 기대된다.                         (NK)

 

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https://www.cerazine.net

 

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